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반도체 8대 공정 이해

분류
직무교육 · 제조·건설
차시
8차시
교육 대상
반도체 업계에 새로 들어온 직원과 협력사 직원

과정 소개

웨이퍼 제조부터 산화, 포토, 식각, 증착, 금속 배선, 테스트, 패키징까지 반도체 8대 공정의 원리와 흐름을 익히는 과정입니다.

학습목표

  • 반도체 제조 공정의 전체 흐름을 설명할 수 있다
  • 각 공정의 목적과 원리를 설명할 수 있다
  • 공정 사이의 관계와 불량 요인을 설명할 수 있다

차시 구성

8차시
  1. 1차시반도체의 기본 원리

    학습목표

    • 반도체의 정의와 동작 원리를 설명할 수 있다
    • 트랜지스터의 기본 역할을 설명할 수 있다

    학습내용

    • 도체, 부도체, 반도체
    • 불순물 도핑의 개념
    • 트랜지스터의 스위치 역할
    • 집적회로
  2. 2차시웨이퍼 제조

    학습목표

    • 웨이퍼 제조 과정을 순서대로 설명할 수 있다
    • 웨이퍼의 품질 기준을 설명할 수 있다

    학습내용

    • 모래에서 실리콘 잉곳까지
    • 웨이퍼 절단과 연마
    • 웨이퍼 크기와 결정 방향
    • 표면 품질
  3. 3차시산화 공정

    학습목표

    • 산화 공정의 목적을 설명할 수 있다
    • 건식 산화와 습식 산화를 비교할 수 있다

    학습내용

    • 산화막의 역할
    • 건식과 습식 산화의 차이
    • 산화막 두께 제어
    • 산화 공정의 조건
  4. 4차시포토 공정

    학습목표

    • 포토 공정의 단계를 순서대로 설명할 수 있다
    • 노광 해상도에 영향을 주는 요인을 설명할 수 있다

    학습내용

    • 감광액 도포
    • 노광과 현상
    • 마스크의 역할
    • 해상도와 파장의 관계
  5. 5차시식각 공정

    학습목표

    • 식각 공정의 목적을 설명할 수 있다
    • 습식 식각과 건식 식각을 비교할 수 있다

    학습내용

    • 식각의 역할
    • 습식과 건식 식각의 차이
    • 선택비와 방향성
    • 식각 불량의 예
  6. 6차시증착과 이온 주입

    학습목표

    • 증착 공정의 종류와 목적을 구분할 수 있다
    • 이온 주입의 원리와 목적을 설명할 수 있다

    학습내용

    • 박막 증착의 목적
    • 화학적, 물리적 증착의 차이
    • 이온 주입과 어닐링
    • 도핑 농도 제어
  7. 7차시금속 배선

    학습목표

    • 금속 배선 공정의 목적과 단계를 설명할 수 있다
    • 배선 재료와 구조의 특성을 설명할 수 있다

    학습내용

    • 배선의 역할
    • 알루미늄과 구리 배선
    • 다층 배선 구조
    • 배선 불량 요인
  8. 8차시테스트와 패키징

    학습목표

    • 테스트 공정의 종류와 목적을 설명할 수 있다
    • 패키징 공정의 단계를 순서대로 설명할 수 있다

    학습내용

    • 웨이퍼 테스트와 최종 테스트
    • 웨이퍼 절단과 칩 접합
    • 와이어 본딩과 몰딩
    • 패키지 종류